제우스는 반도체용 매엽 고온황산장비(HTS)의 개발 및 테스트에 성공해 이달 안으로 시장 공급이 시작될 예정이라고 13일 밝혔다.

이번에 제우스에서 새로 개발한 매엽 고온황산장비는 잔류 감광물질 박리공정(PR STRIP)에 주로 사용하는 장비다. 웨이퍼(wafer) 경면을 반전하여 공정 처리하는 방식을 적용하여 기존 타사 장비에서 발생하던 흄(FUME)에 의한 부식 및 역오염등의 불합리 예방과 제어가 가능하다.

기존 황산과산화수소혼합액 세정(SPM) 장비는 약품간의 화학적 반응작용을 통해 약액의 온도를 120~150도 사이로 올리는 방식을 사용해왔으나, 약품사용량이 많고 최근 환경적 측면이 강조되고 있는 상황에서 사용된 약품의 처리 문제 등 단점이 존재했다.

반면, 이번에 제우스에서 개발한 매엽 고온황산장비(HTS)는 원적외선 세라믹 히터(IR Heater)를 사용해 웨이퍼(wafer) 온도를 200도 이상 순간 가열하는 방식을 적용한 장비로, 케미칼 소모량을 30% 이하로 감소시켜 환경적 측면에서 유리하고 공정시간 또한 단축 시킬 수 있는 장점을 가지고 있다.

회사 관계자는 “해당 장비는 향후 메모리 공정뿐만 아니라 시스템 반도체(SYSTEM LSI) 공정으로 확대가 가능한 것이 특징으로, 장비 수주확대가 가능하다는 점에서 그 가치가 더욱 높다” 며 “일본 자회사인 J.E.T와의 협력으로 영업 시너지 효과 또한 극대화 될 것으로 예상하고 있다”고 밝혔다.